89-8406-45 Back-gated OFET Interdigitated Substrate, Au source/drain, 90 nm SiO2 gate-insulator, varied W/L from 500 to 4000, 16 transistors per chip, chips (diced) FIPMS223-1PAK FIPMS223
[Sigma Aldrich Japan(Sigma-Aldrich)] Back-gated OFET Interdigitated Substrate, Au source/drain, 90 nm SiO2 gate-insulator, varied W/L from 500 to 4000, 16 transistors per chip, chips (diced) FIPMS223-1PAK仕様
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