67-6473-39　8インチTa（スパッタ）膜付きウェーハ（50nm ±10％ 研究用[P（100）,1-100Ω] 片面ミラーDF品 10枚入

仕様

• サイズ：8インチシリコンウェハ
• Ta（タンタル）【スパッタ】膜厚み：50nm±10％（データ付き）
• 直径（mm）：200.0±0.5
• ウェハー厚（μm）：725±25
• 製造方法：CZ法
• 導電型：P型
• 面方位：100
• 抵抗値（Ω・cm）：1～100
• Vノッチ
• 面状態：ミラー／エッチド
• パーティクル：ダストフリー
• TTV（μm）：≦20
• 数量：10枚（1箱）
• ※特注対応品
• その他積層膜、パターニングなど多種取り扱いが御座いますので、お気軽にご相談下さいませ。
• 多様な形状加工と表面処理が可能です（例：エッチング、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
• ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
• ※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
• ※膜ムラや膜厚みの狙いの商品につきましては、不問とさせて頂きます。
• 荷姿サイズ：410×460×420mm　1.00kg [荷姿サイズについて]