67-6444-46　3インチ熱酸化膜付きウェハ（1000nm±10％）研究用 [P（100）,1-100Ω] 片面ミラーDF品 25枚入

仕様

• サイズ：3インチシリコンウェハ
• 熱酸化膜膜厚み：1000nm（1μm）±10％
• 直径（mm）：76.0±0.2
• ウェハー厚（μm）：380±25
• 製造方法：CZ法
• 導電型：P型
• 面方位：100
• OF方位：110
• 抵抗値（Ω・cm）：1～100
• OF長（mm）：22.5±2.5
• 面状態：ミラー／エッチド
• パーティクル：ダストフリー
• TTV（μm）：≦25
• 数量：25枚（1箱）
• ※特注対応品
• 方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
• 多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
• ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
• ※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
• ※膜ムラや膜厚みの狙いの商品につきましては、不問とさせて頂きます。
• 荷姿サイズ：200×210×260mm　1.00kg [荷姿サイズについて]