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67-5065-32 Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond 978-981-15-0048-0
67-5065-32 Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond 978-981-15-0048-0
仕様
- 商品名：Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
- 著者：Wang, Guilei
- 叢書名：Springer Theses
- 装丁：Paper
- 頁数他：XVI, 115 p.
- 発行日：2020/10/02
- 分類：シリコン半導体
- 著者：Wang, Guilei
- 叢書名：Springer Theses
- 装丁：Paper
- 頁数他：XVI, 115 p.
- 発行日：2020/10/02
- 分類：シリコン半導体
