65-3737-49　6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚

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特徴

研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

仕様

サイズ：6インチ（JEIDA）シリコンウェハ
直径（mm）：150.0±0.2
ウェハー厚（μm）：625±25
製造方法：CZ法
導電型：P型
面方位：100
OF方位：110
抵抗値（Ω・cm）：1～100
OF長（mm）：47.5±2.5
面状態：ミラー/エッチド
パーティクル：ダストフリー
TTV（μm）：≦25
数量：10枚
※特注対応品：
方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
1stオリフラ有り、2ndオリフラ無し
荷姿サイズ：200×210×260mm　1.50kg [荷姿サイズについて]

アズワン品番: 65-3737-49

入り数: 1箱(10枚入)

標準価格: 94,800円（税抜）

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商品イメージ	アズワン品番商品名
	65-3737-67 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品 25枚
	65-3737-68 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,1-100Ω,] 両面ミラーDF品 25枚
	65-3737-69 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 両面ミラーDF品 25枚
	65-3737-60 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚
	65-3737-55 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚
	65-3737-56 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚
	65-3737-57 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品 10枚
	65-3737-80 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 10枚
	65-3737-87 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 両面ミラーDF品 25枚
	65-3737-59 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚
	65-3737-74 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 1枚
	65-3737-82 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 25枚
	65-3737-47 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 1枚
	65-3737-49 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚
	65-3737-65 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 10枚
	65-3737-66 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 25枚
	65-3737-73 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 両面ミラーDF品 25枚
	65-3737-79 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚
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	65-3737-86 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）両面ミラーDF品 25枚
	65-3737-48 6インチ（JEIDA）シリコンウェハ研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 5枚
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