61-6938-13　低散乱ウェッジ基板 φ30mm 厚さ5mm 面精度λ/10　WSSQSP-30C05-10-1

特徴

• 平行平面基板に特殊な研磨を行うことで、表面粗さを0.2nm（Ra）以下にしました。
• 基板の散乱の影響が気になる高出力レーザ用ミラーやX線用のミラーの基板として使用できます。
• ウェッジタイプはビームスプリッターなどの裏面反射の影響が気になる場合に使用します。
• CaF2（ フッ化カルシウム）、MgF2（フッ化マグネシウム）は紫外域及び赤外域で高い透過性があります。
• 表面粗さ（ミクロな凸凹）と同時に面精度（面全体の平坦さ）も高く加工されている理想に近い基板です。
• ※低散乱基板の両面ともコーティングされていません。
• ※ガラス表面には2.5％～4％の反射があります。
• ※ウェッジタイプを透過で使用した場合、ビームが0.5度程度傾斜します。
• ※CaF2は表面に傷がつきやすく、紙で拭くことはできません。
• ※ゴミや埃はエアーブロアーを使って取り除いてください。
• ※CaF2やMgF2は高湿の環境下で長時間放置すると、表面が荒れてきます。
• ※使用しない場合はオートドライなどの湿度が少ない環境で保管ください。

仕様

• 【＜低散乱基板＞共通仕様】
• 材質：合成石英　紫外用CaF 2　MgF 2
• 表面粗さ：＜0.2nm（Ra）
• 有効径：外径の90％
• 【個別仕様】
• タイプ：ウェッジ
• 外径 φD：φ30mm
• 厚さ t：5mm
• 材質：合成石英
• 面精度：λ/10
• ウェッジ角度 W：1°±5′
• スクラッチ-ディグ：10−5
• RoHS適合品