特徴
- 研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
仕様
- サイズ:8インチシリコンウェハ
- 熱酸化膜膜厚み:800nm±10%
- 直径(mm):200.0±0.2
- ウェハー厚(μm):725±25
- 製造方法:CZ法
- 導電型:P型
- 面方位:100
- Notch方位:110
- 抵抗値(Ω・cm):1~100
- V Notch
- 面状態:ミラー/エッチド
- パーティクル:≧0.2μm,≦30個(成膜前)
- 荷姿サイズ:800×500×300mm 6.00kg [荷姿サイズについて]
商品のバリエーション (サイズ違い・スペック違い・オプション品など)
よくあるご質問(FAQ)
掲載カタログ情報
| 掲載カタログ名 | 掲載ページ |
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![8インチ熱酸化膜付きウェハ(800nm±10%)研究用 [P(100),1-100Ω] 片面ミラーDF品 50枚入](https://aimg.as-1.co.jp/c/60/3288/01/60328595.jpg)