54-8452-64　薄膜式蒸発装置 DN100　TFE100-10J

特徴

• 均一な薄膜形成を実現、熱敏感性サンプルの処理に最適
• 内部観察が容易なガラス製
• 均一な薄膜形成を行うワイパー機構による高い蒸発能力
• 分解・洗浄が容易な構造
• ※こちらの製品に撹拌機、恒温槽、チラー、熱媒ホース、真空ポンプ等は含みません。

仕様

• 蒸発管伝熱面積：0.1 m2（DN 100）
• 最高許容運転温度：+200℃（ジャケット部）※許容運転温度は付帯設備などの諸条件によります。
• 装置内許容運転圧力：10 Pa（0.1 mbar）～ 常圧
• 媒体槽内許容運転圧力：Full Vacuum ～ +0.05 MPa G（0.5 bar G）
• 許容フィード量：0.3 ～ 3.0 kg／h（DN 100）
• 最大許容粘度：1,000 mPa・s（特注対応の場合）
• ワイパー許容回転数：300 rpm
• 接液部材質：ホウケイ酸ガラス、PTFE、SUS316
• シール部：マグネット式カップリング
• 設置寸法（W×D×H）：685×485×1625
• ※搬入据付費など別途費用がかかります。ご確認ください。
• ※この商品は別途費用が発生する場合があります。
• ※この商品は別途費用が発生する場合があります。