2-960-10 研究用高純度シリコンウェハー 6×N型 1枚入

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仕様

  • サイズ(インチ)×伝導型:6×N型
  • OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):47.5±2.5×625±25
  • 製造方法:CZ法
  • 面方位:100
  • OF位置:110
  • 抵抗値:0.1~100Ω・cm
  • パーティクル:パーティクル不問
  • 入数:1枚
  • 特注対応品について
  • ①方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差を、より小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
  • ②多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)。
  • ③ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
  • ④8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください(最低単位25枚)。
  • ※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
  • 荷姿サイズ:490×445×275mm 6.00kg [荷姿サイズについて]
  • RoHS2 (EU) 2015/863 対応 [RoHSについて]
アズワン品番
2-960-10
入り数
1枚
標準価格
14,100円(税抜)
WEB価格
アズワン在庫 [?]
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よくあるご質問

商品のバリエーション (サイズ違い・スペック違い・オプション品など)

商品イメージ アズワン品番 商品名
2-960-63
研究用高純度シリコンウェハー 2×P型 25枚入
2-960-10
研究用高純度シリコンウェハー 6×N型 1枚入
2-960-51
研究用高純度シリコンウェハー 50枚入
2-960-57
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-03
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-02
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-05
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-01
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-56
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-07
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(低抵抗) 1枚入
2-960-55
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-06
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-11
研究用高純度シリコンウェハー 2×P型
2-960-13
研究用高純度シリコンウェハー 3×P型
2-960-14
研究用高純度シリコンウェハー 3×N型
2-960-61
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(低抵抗) 25枚入
2-960-18
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(高抵抗)
2-960-09
研究用高純度シリコンウェハー 6×P型 1枚入
2-960-59
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-62
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(高抵抗) 25枚入
2-960-12
研究用高純度シリコンウェハー 2×N型
2-960-08
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(高抵抗)  1枚入
2-960-52
研究用高純度シリコンウェハー 50枚入
2-960-17
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型(低抵抗)
2-960-15
研究用高純度シリコンウェハー 4×P型
2-960-16
研究用高純度シリコンウェハー 4×N型
2-960-04
研究用高純度シリコンウェハー 1枚入
2-960-58
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-54
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-53
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-60
研究用高純度シリコンウェハー 25枚入
2-960-64
研究用高純度シリコンウェハー 2×N型 25枚入

よくあるご質問(FAQ)

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